为打破供应链单一依赖,SK海力士正积极扩大其DRAM制造中铪(Hf)基高k(High-k,高介电常数)前驱体的供应商范围。这种前驱体长期以来一直受日本Tri Chemical Laboratories Inc. (TCLC)公司持有的专利保护,但这些专利将于今年晚些时候到期。